基本信息:
- 专利标题： PELLICLE MEMBRANE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
- 申请号：EP20821256.3 申请日：2020-12-15
- 公开(公告)号：EP4091023A1 公开(公告)日：2022-11-23
- 发明人： VAN DER WOORD, Ties, Wouter , HILDENBRAND, Volker, Dirk , DONMEZ NOYAN, Inci , GIESBERS, Adrianus, Johannes, Maria , KLEIN, Alexander, Ludwig
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： NL 5500 AH Veldhoven P.O. Box 324
- 代理机构： ASML Netherlands B.V.
- 优先权： EP20193717 20200831
- 国际公布： WO2021144097 20210722
- 主分类号： G03F1/62
- IPC分类号： G03F1/62 ; G03F7/20
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |
| --------G03F1/62 | .薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备 |