发明公开
EP3321739A1 ILLUMINATION SOURCE FOR AN INSPECTION APPARATUS, INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： ILLUMINATION SOURCE FOR AN INSPECTION APPARATUS, INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD
- 专利标题（中）：检查设备的照明源，检查设备和检查方法
- 申请号：EP16198346.5 申请日：2016-11-11
- 公开(公告)号：EP3321739A1 公开(公告)日：2018-05-16
- 发明人： ROOBOL, Sander, Bas , MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven NL
- 代理机构： Broeken, Petrus Henricus Johannes
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G02F1/35 ; G01N21/956 ; H01S3/00
摘要：
Disclosed is an illumination source apparatus comprising a high harmonic generation medium (910), a pump radiation source and a spatial filter (940). The pump radiation source emits a beam (900) of pump radiation having a profile comprising no pump radiation in a central region of the beam and excites the high harmonic generation medium so as to generate high harmonic radiation (920). The pump radiation (950) and the generated high harmonic radiation are spatially separated beyond the focal plane of the beam of pump radiation. The spatial filter is located beyond a focal plane of the beam of pump radiation, and blocks the pump radiation. Also disclosed is a method of generating high harmonic measurement radiation optimized for filtration of pump radiation therefrom.
摘要（中）：
公开了一种照明源设备，其包括高次谐波生成介质（910），泵浦辐射源和空间滤波器（940）。 泵浦辐射源在光束的中心区域发射具有不包含泵浦辐射的轮廓的泵浦辐射束（900），并激发高次谐波生成介质以产生高次谐波辐射（920）。 泵浦辐射（950）和产生的高次谐波辐射在泵浦辐射束的焦平面之外空间分离。 空间滤波器位于泵浦辐射束的焦平面之外，并阻挡泵浦辐射。 还公开了一种产生为了过滤泵浦辐射而优化的高次谐波测量辐射的方法。