发明公开
EP3229075A1 PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
有权
基本信息:
- 专利标题： PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
- 专利标题（中）：光致抗蚀剂组合物，其制造方法及形成抗蚀剂图案的方法
- 申请号：EP15865292.5 申请日：2015-11-26
- 公开(公告)号：EP3229075A1 公开(公告)日：2017-10-11
- 发明人： NAKAGAWA Hisashi , SHIRATANI Motohiro , NARUOKA Takehiko , NAGAI Tomoki
- 申请人： JSR Corporation
- 申请人地址： 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-8640 JP
- 专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人地址： 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-8640 JP
- 代理机构： TBK
- 优先权： JP2014244536 20141202
- 国际公布： WO2016088655 20160609
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004 ; G03F7/038
摘要：
According to an aspect of the invention, a photoresist composition comprises: a radiation-sensitive acid generator that is capable of generating an acid upon irradiation with a radioactive ray, an action of the acid allowing a solubility in a developer solution to be altered; first particles comprising a metal element and having a hydrodynamic radius as determined by a dynamic light scattering analysis being no greater than 20 nm; and a first solvent. The photoresist composition may comprise a first compound comprising an acid-labile group. The radiation-sensitive acid generator may be the first compound comprising a group that is capable of generating an acid upon exposure to a radioactive ray.
摘要（中）：
根据本发明的一个方面，一种光致抗蚀剂组合物包含：放射线敏感酸生成剂，其能够在放射线照射下产生酸，该酸的作用允许改变在显影剂溶液中的溶解度; 包含金属元素且通过动态光散射分析确定的流体动力学半径不大于20nm的第一颗粒; 和第一溶剂。 光致抗蚀剂组合物可以包含含有酸不稳定基团的第一化合物。 辐射敏感产酸剂可以是第一种化合物，其包含在暴露于放射线时能够产生酸的基团。