基本信息:
- 专利标题： POLYDIMETHYLSILOXANE GRAFTED POLYETHYLENE FOAM
- 专利标题（中）：聚二甲基硅氧烷聚合物聚乙烯吡咯烷酮
- 申请号：EP14899628.3 申请日：2014-08-15
- 公开(公告)号：EP3180793A1 公开(公告)日：2017-06-21
- 发明人： DU, Zhe , CHEN, Cheng , GUO, David Hong Fei , LI, Dachao , SUN, Gangwei , ZHANG, Jianxin
- 申请人： Dow Global Technologies Llc
- 申请人地址： 2040 Dow Center Midland, MI 48674 US
- 专利权人： Dow Global Technologies Llc
- 当前专利权人： DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
- 当前专利权人地址： DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
- 代理机构： Boult Wade Tennant
- 国际公布： WO2016023218 20160218
- 主分类号： H01B3/44
- IPC分类号： H01B3/44 ; C08J9/12
摘要：
In one aspect there is provided a foam comprising: a polymeric matrix comprising polyethylene grafted polymerized siloxane, and a plurality of cells formed in the polymeric matrix and containing a blowing agent comprising carbon dioxide. In another aspect there is provided a method of making a foam comprising: grafting polymerized siloxane to polyethylene to form a grafted intermediate; molding the grafted intermediate to form a molded intermediate; and foaming the molded intermediate using high-pressure CO2 to form the foam, wherein the foam has a porosity greater than 75%.
摘要（中）：
一方面，提供了一种泡沫，其包括：包含聚乙烯接枝的聚合的硅氧烷的聚合物基质和形成在聚合物基质中并含有包含二氧化碳的发泡剂的多个细胞。 在另一方面，提供了一种制备泡沫的方法，包括：将聚合的硅氧烷接枝到聚乙烯上以形成接枝的中间体; 模塑接枝的中间体以形成模制的中间体; 并使用高压CO 2使模制的中间体发泡以形成泡沫，其中泡沫具有大于75％的孔隙率。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01B | 电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择 |
| ------H01B3/00 | 按绝缘材料的特性区分的绝缘体或绝缘物体；绝缘或介电材料的性能的选择 |
| --------H01B3/02 | .主要由无机物组成的 |
| ----------H01B3/30 | ..塑料；树脂；蜡 |
| ------------H01B3/44 | ...乙烯类树脂；丙烯酸类树脂 |