发明公开
EP3161061A1 PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS, PATTERNED HIGH K THIN FILM DIELECTRICS AND RELATED DEVICES
有权
转让
基本信息:
- 专利标题： PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS, PATTERNED HIGH K THIN FILM DIELECTRICS AND RELATED DEVICES
- 专利标题（中）：LICHTSTRUKTURIERBARE组合物结构化DÜNNSCHICHTDIELEKTRIKA高K值和相关设备
- 申请号：EP15744749.1 申请日：2015-06-26
- 公开(公告)号：EP3161061A1 公开(公告)日：2017-05-03
- 发明人： ZHAO, Wei , FACCHETTI, Antonio , ZHENG, Yan , STEFANI, Andrea , RIVA, Mauro , SOLDANO, Caterina , MUCCINI, Michele
- 申请人： Flexterra, Inc. , E.T.C. S.r.l.
- 申请人地址： 8025 Lamon Avenue, Suite 043 Skokie, IL 60077 US
- 专利权人： Flexterra, Inc.,E.T.C. S.r.l.
- 当前专利权人： FLEXTERRA, INC.
- 当前专利权人地址： FLEXTERRA, INC.
- 代理机构： Barbaro, Gaetano
- 优先权： US201462017262P 20140626; EP14425084 20140626
- 国际公布： WO2015200872 20151230
- 主分类号： C08K5/00
- IPC分类号： C08K5/00 ; C08F214/18 ; C08F8/00 ; H01L21/00 ; G03F7/00 ; C08F214/22 ; H01L51/52 ; G03F7/004 ; G03F7/038
摘要：
The present teachings relate to a photocrosslinkable composition including a partially fluorinated polymer, a photosensitive dehydrohalogenating agent, and a crosslinker. The photocrosslinkable composition can be used to prepare a patterned thin film having a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.
摘要（中）：
本教导涉及一种相片可交联组合物包含部分氟化的聚合物，光敏脱卤化氢剂，和交联剂。 光可交联的组合物可用于制备具有高介电常数的图形化的薄膜，例如，比第十一个介电常数大
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08K | 使用无机物或非高分子有机物作为配料 |
| ------C08K5/00 | 使用有机配料 |