EP3055377B1 WET-PROCESS CERIA COMPOSITIONS FOR SELECTIVELY POLISHING SUBSTRATES, AND METHODS RELATED THERETO
有权
转让
基本信息:
- 专利标题： WET-PROCESS CERIA COMPOSITIONS FOR SELECTIVELY POLISHING SUBSTRATES, AND METHODS RELATED THERETO
- 申请号：EP14852790.6 申请日：2014-09-30
- 公开(公告)号：EP3055377B1 公开(公告)日：2019-03-20
- 发明人： REISS, Brian
- 申请人： Cabot Microelectronics Corporation
- 申请人地址： 870 North Commons Drive Aurora, Illinois 60504 US
- 专利权人： Cabot Microelectronics Corporation
- 当前专利权人： CMC MATERIALS, INC., AURORA, US
- 当前专利权人地址： CMC MATERIALS, INC., AURORA, US
- 代理机构： Barker Brettell LLP
- 优先权： US201314050722 20131010
- 国际公布： WO2015053981 20150416
- 主分类号： C09K3/14
- IPC分类号： C09K3/14 ; C09G1/04
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09K | 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 |
| ------C09K3/00 | 不包含在其他类目中的材料 |
| --------C09K3/14 | .防滑材料；研磨材料 |