EP2760786B1 PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE GRAPHÈNE À LA SURFACE D'UN SUBSTRAT COMPRENANT UNE COUCHE DE SILICIUM
有权
![PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE GRAPHÈNE À LA SURFACE D'UN SUBSTRAT COMPRENANT UNE COUCHE DE SILICIUM](/ep/2018/05/02/EP2760786B1/abs.jpg.150x150.jpg)
基本信息:
- 专利标题: PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE GRAPHÈNE À LA SURFACE D'UN SUBSTRAT COMPRENANT UNE COUCHE DE SILICIUM
- 专利标题(英):EP2760786B1 - Process for preparing a layer of graphene on the surface of a substrate comprising a layer of silicon
- 专利标题(中):在包括硅层的衬底的表面上形成石墨层的方法
- 申请号:EP12762648.9 申请日:2012-09-28
- 公开(公告)号:EP2760786B1 公开(公告)日:2018-05-02
- 发明人: OUERGHI, Abdelkarim
- 申请人: Centre National de la Recherche Scientifique
- 申请人地址: 3, rue Michel-Ange 75016 Paris FR
- 专利权人: Centre National de la Recherche Scientifique
- 当前专利权人: Centre National de la Recherche Scientifique
- 当前专利权人地址: 3, rue Michel-Ange 75016 Paris FR
- 代理机构: Novagraaf Technologies
- 优先权: FR1158818 20110930
- 国际公布: WO2013045641 20130404
- 主分类号: C01B32/20
- IPC分类号: C01B32/20 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00 ; H01L21/02 ; H01L29/16 ; C01B32/184 ; C01B32/188