基本信息:
- 专利标题： LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR STORING POSITIONAL DATA OF A TARGET
- 专利标题（中）：光刻系统和方法存储目标数据位置
- 申请号：EP12738653.0 申请日：2012-07-10
- 公开(公告)号：EP2732341B1 公开(公告)日：2016-11-30
- 发明人： LOOIJE, Alexius Otto , DANSBERG, Michel Pieter , VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus , DE BOER, Guido
- 申请人： Mapper Lithography IP B.V.
- 申请人地址： Computerlaan 15 2628 XK Delft NL
- 专利权人： Mapper Lithography IP B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.; NL
- 当前专利权人地址： ASML NETHERLANDS B.V.; NL
- 优先权： US201161506581P 20110711
- 国际公布： WO2013028066 20130228
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20