基本信息:

• 专利标题： CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR AN INTERIOR OF A HOLLOW ARTICLE WITH HIGH ASPECT RATIO
• 专利标题（中）：化学气相沉积，内部的中空制品宽高比HIGH
• 申请号：EP10838345 申请日：2010-12-20
• 公开(公告)号：EP2513354A4 公开(公告)日：2016-02-10
• 发明人： UPADHYAYA DEEPAK , BOINAPALLY KARTHIK , BOARDMAN WILLIAM J , MAMOODY MATTHEW , CASSERLY THOMAS B , HAZARIKA PANKAJ JYOTI , DOAN DUC
• 申请人： SUB ONE TECHNOLOGY INC
• 专利权人： SUB ONE TECHNOLOGY INC
• 当前专利权人： SUB ONE TECHNOLOGY INC
• 优先权： US28817209 2009-12-18; US28819309 2009-12-18; US28817809 2009-12-18; US28818509 2009-12-18; US37065910 2010-08-04
• 主分类号： C23C16/00
• IPC分类号： C23C16/00 ; C23C16/27 ; C23C16/455 ; H01J37/32

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