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EP2447753A1 Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type
- 专利标题（中）：成像光学器件和投射曝光系统的用于微光刻与这样的成像光学器件
- 申请号：EP11185707.4 申请日：2010-03-11
- 公开(公告)号：EP2447753A1 公开(公告)日：2012-05-02
- 发明人： Mann, Dr. Hans-Jürgen , Zellner, Dr. Johannes , Dodoc, Dr. Aurelian , Zahlten, Claus , Menke, Dr. Christoph , Pretorius, Dr. Marco , Ulrich, Wilhelm , Rostalski, Dr. Hans-Jürgen
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Rau, Schneck & Hübner
- 优先权： US164520P 20090330
- 主分类号： G02B17/06
- IPC分类号： G02B17/06 ; G03F7/20 ; G02B17/08
摘要：
An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 µrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). A handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput for the imaging light results.
摘要（中）：
成像光学器件（36）的平面具有反射镜的多个（M1至M6），其中图像中的图像平面上的物体场（4）在对象（5）转换成的像场（8）（9）。 所述成像光学器件（36）的反射镜中的至少一个的反射表面（M1至M6）被配置为静态自由曲面不能由旋转对称函数描述。 这不同于在非球面最佳改编于此，其可以由旋转对称函数在做了正常（FNB）来描述的自由形式表面的使用区域（23）的自由曲面元件（20），所有这些是 配置为引导所述成像光（3）采用在具有正常（FN）的最大70微弧度的角度（±）非球面表面（21）的对应非球面表面元件（22）。 小成像误差，可管理生产和成像光效果良好的吞吐量的处理能力相结合。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B17/00 | 有或无折射元件的具有反射面的系统 |
| --------G02B17/02 | .反射光系统，例如，影像竖立和倒向系统 |
| ----------G02B17/06 | ..只用反射镜的 |