基本信息:
- 专利标题： Plasma film forming apparatus
- 专利标题（中）：Vorrichtung zur Plasmafilmbildung
- 申请号：EP11150804.0 申请日：2011-01-13
- 公开(公告)号：EP2345751A1 公开(公告)日：2011-07-20
- 发明人： Yorozuya, Shunichi
- 申请人： Honda Motor Co., Ltd.
- 申请人地址： 1-1, Minami-Aoyama 2-chome Minato-ku Tokyo 107-8556 JP
- 专利权人： Honda Motor Co., Ltd.
- 当前专利权人： Honda Motor Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 1-1, Minami-Aoyama 2-chome Minato-ku Tokyo 107-8556 JP
- 代理机构： Beder, Jens
- 优先权： JP2010005021 20100113
- 主分类号： C23C16/50
- IPC分类号： C23C16/50 ; C23C16/52 ; C23C16/455
摘要：
The present invention relates to a plasma film forming apparatus. In the plasma film forming apparatus, a flow control jig (14) is disposed between a plasma nozzle (16) and a film formation region (12) of a substrate (10). The flow control jig (14) has a plasma supply path (20), a raw material supply path (22), a film formation joined path (24) formed by combining the plasma supply path (20) and the raw material supply path (22), an exhaust path (26) for discharging a plasma discharge gas and an unreacted raw material transported from the film formation region (12), and a recovery path (28) for returning the unreacted raw material in the exhaust path (26) to the plasma supply path (20).
摘要（中）：
等离子体成膜装置技术领域本发明涉及等离子体成膜装置。 在等离子体成膜装置中，在等离子体喷嘴（16）和基板（10）的成膜区域（12）之间设置流量控制夹具（14）。 流量控制夹具（14）具有等离子体供给路径（20），原料供给路径（22），通过组合等离子体供给路径（20）和原料供给路径（ 22），用于排出等离子体放电气体的排气路径（26）和从成膜区域（12）输送的未反应原料，以及用于使排气路径（26）中的未反应原料返回的回收路径（28） 到等离子体供给路径（20）。
公开/授权文献:
- EP2345751B1 Plasma film forming apparatus 公开/授权日：2013-07-03