基本信息:
- 专利标题： Lithography system
- 专利标题（中）：石版系统
- 申请号：EP10185252.3 申请日：2003-10-24
- 公开(公告)号：EP2302459A2 公开(公告)日：2011-03-30
- 发明人： Van 't Spijker, Johannes Christiaan , Jager, Remco , Wieland, Marco Jan-Jaco , Kruit, Pieter
- 申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
- 申请人地址： Computerlaan 15 2628 XK Delft NL
- 专利权人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
- 当前专利权人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
- 当前专利权人地址： Computerlaan 15 2628 XK Delft NL
- 代理机构： Peters, Sebastian Martinus
- 优先权： US421464P 20021025
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01J37/317
摘要：
The invention relates to a maskless lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target, comprising at least one beam generator for generating a plurality of beamlets, modulation means comprising a plurality of modulators for modulating the magnitude of a beamlet, and a control unit for controlling each of the modulators, wherein the control unit generates and delivers pattern data to said modulation means for controlling the magnitude of each individual beamlet, the control unit comprising at least one data storage for storing the pattern data, at least one readout unit for reading out the data from the data storage, at least one data converter for converting the data that is read out from the data storage into at least one modulated light beam, and at least one optical transmitter for transmitting said at least one modulated light beam to said modulation means.
摘要（中）：
本发明涉及一种用于将图案转移到目标表面上的无掩模光刻系统，包括至少一个用于产生多个子束的光束发生器，包括用于调制子束的幅度的多个调制器的调制装置，以及控制 用于控制每个调制器的单元，其中所述控制单元产生并将模式数据传送到所述调制装置，用于控制每个单独子波束的幅度，所述控制单元包括用于存储所述图形数据的至少一个数据存储器，至少一个读出单元 用于从数据存储器读出数据的至少一个数据转换器，用于将从数据存储器读出的数据转换成至少一个调制光束的至少一个数据转换器，以及至少一个用于发送所述至少一个调制光束 到所述调制装置。
公开/授权文献:
- EP2302459A3 Lithography system 公开/授权日：2011-04-06