发明公开
EP2283310A1 METHOD AND APPARATUS FOR OVERLAY COMPENSATION BETWEEN SUBSEQUENTLY PATTERNED LAYERS ON WORKPIECE
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： METHOD AND APPARATUS FOR OVERLAY COMPENSATION BETWEEN SUBSEQUENTLY PATTERNED LAYERS ON WORKPIECE
- 专利标题（中）：方法和设备补偿OVERLAP安排在部分连续层之间
- 申请号：EP09750177.9 申请日：2009-05-22
- 公开(公告)号：EP2283310A1 公开(公告)日：2011-02-16
- 发明人： FREDRIK, Sjostrom , WAHLSTEN, Mikael
- 申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB
- 申请人地址： Nytorpsvägen 9, P.O. Box 3141 S-18303 Täby SE
- 专利权人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB
- 当前专利权人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB
- 当前专利权人地址： Nytorpsvägen 9, P.O. Box 3141 S-18303 Täby SE
- 优先权： US71871P 20080522
- 国际公布： WO2009141720 20091126
- 主分类号： G01B11/30
- IPC分类号： G01B11/30 ; B41J2/435 ; G01B11/25 ; G03F7/20
摘要：
Methods and apparatuses for patterning workpieces are provided. The methods and apparatuses described herein improve overlay between subsequently patterned layers on a workpiece by introducing an improved alignment method that compensates for workpiece distortions.
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01B | 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 |
| ------G01B11/00 | 以采用光学方法为特征的计量设备 |
| --------G01B11/30 | .用于计量表面的粗糙度和不规则性 |