![METHOD OF FORMING A TRANSISTOR HAVING A DUAL LAYER DIELECTRIC](/ep/2007/08/08/EP1815528A1/abs.jpg.150x150.jpg)
基本信息:
- 专利标题: METHOD OF FORMING A TRANSISTOR HAVING A DUAL LAYER DIELECTRIC
- 专利标题(中):法形成晶体管,双层介
- 申请号:EP05801056.2 申请日:2005-09-21
- 公开(公告)号:EP1815528A1 公开(公告)日:2007-08-08
- 发明人: HOFFMAN, Randy , MARDILOVICH, Peter
- 申请人: Hewlett-Packard Development Company, L.P.
- 申请人地址: 20555 S.H. 249 Houston, TX 77070 US
- 专利权人: Hewlett-Packard Development Company, L.P.
- 当前专利权人: Hewlett-Packard Development Company, L.P.
- 当前专利权人地址: 20555 S.H. 249 Houston, TX 77070 US
- 代理机构: Jackson, Richard Eric
- 优先权: US971336 20041022
- 国际公布: WO2006047024 20060504
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L29/49 ; H01L21/336 ; H01L21/445
摘要:
Embodiments of methods, apparatuses, components, and/or systems for forming a transistor (100) having a dual layer dielectric (108,110) are described.
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L29/00 | 专门适用于整流、放大、振荡或切换,并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒,例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器;半导体本体或其电极的零部件 |
--------H01L29/02 | .按其半导体本体的特征区分的 |
----------H01L29/68 | ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的 |
------------H01L29/70 | ...双极器件 |
--------------H01L29/762 | ....电荷转移器件 |
----------------H01L29/78 | .....由绝缘栅产生场效应的 |
------------------H01L29/786 | ......薄膜晶体管 |