基本信息:
- 专利标题： METHODS FOR MINIMIZING THIOAMIDE IMPURITIES
- 专利标题（中）：方法减少THIOAMIDVERUNREINIGUNGEN
- 申请号：EP05738187.3 申请日：2005-04-07
- 公开(公告)号：EP1732922A1 公开(公告)日：2006-12-20
- 发明人： WILK, Bogdan, Kazimierz
- 申请人： Wyeth
- 申请人地址： Five Giralda Farms Madison, New Jersey 07940 US
- 专利权人： Wyeth
- 当前专利权人： Wyeth
- 当前专利权人地址： Five Giralda Farms Madison, New Jersey 07940 US
- 代理机构： Wileman, David Francis
- 优先权： US560403P 20040408
- 国际公布： WO2005100347 20051027
- 主分类号： C07D413/04
- IPC分类号： C07D413/04
摘要：
Methods for minimizing the formation of thioamide compounds using decoy agents during reactions, such as thionations of carbonyl compounds containing nitrile groups, are provided.
公开/授权文献:
- EP1732922B1 METHODS FOR MINIMIZING THIOAMIDE IMPURITIES 公开/授权日：2008-10-01
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D413/00 | 杂环化合物，含两个或更多个杂环，至少有1个环有氮原子和氧原子作为仅有的杂环原子 |
| --------C07D413/02 | .含两个杂环 |
| ----------C07D413/04 | ..被环原子—环原子的键直接连接的 |