基本信息:
- 专利标题： Scratch resistant antistatic layer for imaging elements
- 专利标题（中）：Kratzfeste antistatische SchichtfürBilderzeugungselemente
- 申请号：EP00200894.4 申请日：2000-03-13
- 公开(公告)号：EP1039342A1 公开(公告)日：2000-09-27
- 发明人： Majumdar, Debasis, c/o Eastman Kodak Company , Anderson, Charles Chester, c/o Eastman Kodak Co.
- 申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 申请人地址： 343 State Street Rochester, New York 14650 US
- 专利权人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 当前专利权人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 当前专利权人地址： 343 State Street Rochester, New York 14650 US
- 代理机构： Parent, Yves
- 优先权： US276530 19990325
- 主分类号： G03C1/76
- IPC分类号： G03C1/76 ; G03G5/147 ; B41M5/40
摘要：
The present invention is an imaging element having, a support, an image-forming layer superposed on the support and an outermost scratch resistant antistatic layer superposed on the support. The outermost scratch resistant antistatic layer has a thickness between 0.6 and 10 microns. The scratch resistant layer is composed of a polymer having a modulus greater than 100 MPa measured at 20 °C and a tensile elongation to break greater than 50%, a filler particle having a modulus greater than 10 GPa, and an electrically conducting polymer. The volume ratio of the polymer to the filler particle is between 70:30 and 40:60 and the electrically conducting polymer is present at a weight concentration based on a total dried weight of the scratch resistant layer of between 1 and 10 weight percent.
摘要（中）：
本发明是一种成像元件，其具有支撑体，叠置在支撑体上的图像形成层和叠置在支撑体上的最外侧抗划伤性抗静电层。 最外面的耐刮擦抗静电层的厚度为0.6-10微米。 防刮层由在20℃下测得的模量大于100MPa，断裂伸长率大于50％，模量大于10GPa的填料颗粒和导电聚合物的聚合物组成。 聚合物与填料颗粒的体积比为70:30至40:60，导电聚合物的重量浓度基于耐刮擦层的总干重为1至10重量％。
公开/授权文献:
- EP1039342B1 Scratch resistant antistatic layer for imaging elements 公开/授权日：2005-05-04
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03C | 照相用的感光材料（照相制版用的入G03F）；照相过程，例如，电影、X射线、彩色、立体照相过程；照相的辅助过程 |
| ------G03C1/00 | 感光材料 |
| --------G03C1/76 | .以基底或辅助层表征的感光材料 |