基本信息:
- 专利标题： Thin film resistor and process for producing the same
- 专利标题（中）：薄膜电阻和制造过程。
- 申请号：EP89108477.4 申请日：1989-05-11
- 公开(公告)号：EP0341708B1 公开(公告)日：1994-04-27
- 发明人： Baba, Kazuo , Shiratsuki, Yoshiyuki , Takahashi, Kumiko
- 申请人： FUJI XEROX CO., LTD.
- 申请人地址： No. 3-5, Akasaka 3-chome Minato-ku Tokyo 107 JP
- 专利权人： FUJI XEROX CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI XEROX CO., LTD.
- 当前专利权人地址： No. 3-5, Akasaka 3-chome Minato-ku Tokyo 107 JP
- 代理机构： Boeters, Hans Dietrich, Dr.
- 优先权： JP116444/88 19880513
- 主分类号： H01C7/00
- IPC分类号： H01C7/00 ; H01C17/06
公开/授权文献:
- EP0341708A3 Thin film resistor and process for producing the same 公开/授权日：1990-11-22