基本信息:
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern-forming method
- 专利标题（中）：Lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Musters。
- 申请号：EP80303760.5 申请日：1980-10-23
- 公开(公告)号：EP0028486A1 公开(公告)日：1981-05-13
- 发明人： Hayashi, Nobuaki , Akagi, Motoo , Miura, Kiyoshi , Odaka, Yoshiyuki
- 申请人： Hitachi, Ltd.
- 申请人地址： 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址： 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Paget, Hugh Charles Edward
- 优先权： JP136413/79 19791024
- 主分类号： G03C1/70
- IPC分类号： G03C1/70 ; G03F7/08
摘要：
A photosensitive composition used in forming patterns for colour picture tubes comprises (a) a copolymer of acrylamide and diacetoneacrylamide and (b) a water soluble aromatic bisazide compound. This composition is improved by incorporating a sulfonated vinyl monomer such as sodium-p-styrene-sulfonate in the copolymer. This composition has the advantage that it follows a reciprocal failure law; i.e. the degree of cross linkage of B is related to the intensity i and exposure time t of irradiation by the equation B =f(i.t.P) where p is Schwarzschild's constant, which is in the range 0
摘要（中）：
用于形成彩色显象管图案的光敏组合物包括（a）丙烯酰胺和双丙酮丙烯酰胺的共聚物和（b）水溶性芳族双叠氮化合物。 通过在共聚物中引入磺化乙烯基单体如对 - 苯乙烯磺酸钠来改善该组合物。 这种组合的优点在于它遵循互逆的失败定律; 即B的交联度与辐射的强度i和曝光时间t有关，方程B = f（it p）其中p是Schwarzschild常数，其在O
公开/授权文献:
- EP0028486B1 Photosensitive composition and pattern-forming method 公开/授权日：1984-03-14