基本信息:
- 专利标题： 旋转阴极磁场磁控溅射装置
- 申请号：CN202223095856.0 申请日：2022-11-22
- 公开(公告)号：CN218539808U 公开(公告)日：2023-02-28
- 发明人： 吴纯恩 , 安辉 , 陆艳君 , 孙丹 , 邓文宇 , 杨双 , 蒋立正 , 齐丽君 , 陈晓东 , 侯强 , 安跃军
- 申请人： 沈阳工业大学
- 申请人地址： 辽宁省沈阳市沈阳经济技术开发区沈辽西路111号
- 专利权人： 沈阳工业大学
- 当前专利权人： 沈阳工业大学
- 当前专利权人地址： 辽宁省沈阳市沈阳经济技术开发区沈辽西路111号
- 代理机构： 沈阳亚泰专利商标代理有限公司
- 代理人： 邵明新
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C14/54 ; H01J37/34
摘要：
本实用新型涉及一种磁控溅射装置,尤其涉及一种旋转阴极磁场磁控溅射装置。包括靶材‑基体固定架、磁极旋转架和凸轮滑轨结构三个部分，靶材‑基体固定架是一个环形，内部一层安装待镀基体，外部一层安装靶材，且一一对应形成六个工作区，靶材‑基体固定架上端安装有加载电极，在靶材‑基体间形成稳定的电场，磁极旋转架通过滚动轴承和顶丝与靶材‑基体固定架同轴安装，并利用驱动皮带轮带动磁极旋转，凸轮滑轨结构是利用磁极上的凸轮柱在环形凸轮面上运动，使做旋转运动的磁极同时在滑轨上做上下直线运动，从而使均匀的磁场一直处于靶材的工作面上，从而提高靶材的利用率和溅射均匀度，改善了阴极磁场的质量，使基体表面沉积的薄膜质量更好。