基本信息:
- 专利标题： 一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备
- 申请号：CN202023339168.5 申请日：2020-12-31
- 公开(公告)号：CN214735485U 公开(公告)日：2021-11-16
- 发明人： 蒲云平 , 赵强 , 胡通 , 莫杰 , 冯晓青 , 纪淼 , 宁红锋
- 申请人： 有研国晶辉新材料有限公司
- 申请人地址： 河北省廊坊市三河市燕郊兴都村南有研科技集团有限公司二部
- 专利权人： 有研国晶辉新材料有限公司
- 当前专利权人： 有研国晶辉新材料有限公司
- 当前专利权人地址： 河北省廊坊市三河市燕郊兴都村南有研科技集团有限公司二部
- 代理机构： 北京辰权知识产权代理有限公司
- 代理人： 金铭
- 主分类号： C07F7/21
- IPC分类号： C07F7/21
摘要：
本实用新型涉及一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括吸附‑萃取反应釜、第一分离罐、第二分离罐、第三分离罐和精馏塔；所述吸附‑萃取反应釜设有吸附剂入口、原料及萃取剂入口、上层清液出口、乳化混合液出口；其中上层清液出口和第二分离罐相连通，乳化混合液出口与第一分离罐相连通；第三分离罐设有混合液入口和八甲基环四硅氧烷回收出口，分别与第一分离罐和第二分离罐相连通。该设备不仅能较大限度的分离八甲基环四硅氧烷与萃取剂，也能节约反应器的静置时间，且有效的避免了金属杂质脱附现象的发生，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，减少了后续精馏的难度，具有节省能耗的优点。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07F | 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物 |
| ------C07F7/00 | 含周期表第Ⅳ族元素的化合物 |
| --------C07F7/02 | .硅化合物 |
| ----------C07F7/21 | ..具有至少1个含硅而不含碳的环的环状化合物 |