基本信息:
- 专利标题： 用于反应气净化工具部件的方法和工艺
- 专利标题（英）：Method and process for reactive gas cleaning of tool parts
- 申请号：CN200610088653.5 申请日：2006-05-16
- 公开(公告)号：CN1891858A 公开(公告)日：2007-01-10
- 发明人： 吴定军 , E·J·小卡瓦基 , 齐宾
- 申请人： 气体产品与化学公司
- 申请人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 专利权人： 气体产品与化学公司
- 当前专利权人： 气体产品与化学公司
- 当前专利权人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人： 刘锴; 段晓玲
- 优先权： 11/130307 2005.05.16 US
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44
摘要：
本发明涉及具有在半导体沉积室中形成的多余的残留物涂层的沾污工具部件的净化的改进。在该方法中，将待净化的沾污部件从半导体沉积室中移走，并放置在离线于半导体沉积室的反应室中，即在离线气体反应室中。当在所述离线反应器中时，在将残留物转化为挥发性物质的条件下，使沾污部件与反应气接触，然后从所述离线气体反应室中除去挥发性物质，从而在离线反应器中除去沾污部件上的残留物涂层。