基本信息:
- 专利标题： 膜图案的形成法、膜图案、器件、电光学装置和电子仪器
- 专利标题（英）：Method of forming film pattern, film pattern, device, electro optic device, and electronic apparatus
- 申请号：CN200610077881.2 申请日：2006-05-10
- 公开(公告)号：CN1862767A 公开(公告)日：2006-11-15
- 发明人： 平井利充 , 守屋克之 , 酒井真理
- 申请人： 精工爱普生株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 精工爱普生株式会社
- 当前专利权人： 精工爱普生株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 汪惠民
- 优先权： 2005－138095 2005.05.11 JP
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; H01L21/288 ; H01L21/3205 ; H01L21/768
摘要：
本发明提供在围堰上不残留弹落的功能液的残渣、使该功能液确实地流入图案形成区域内、得到可靠性高的膜图案的膜图案形成方法，用该形成方法得到的膜图案、具备该膜图案的器件、电光学装置和电子仪器。本发明是将功能液(X1)配置在基板(P)上形成膜图案的方法，首先，在基板(P)上形成与膜图案的形成区域(34)相对应的围堰(B)。而且，将功能液(X1)配置在由围堰(B)区分的图案形成区域(34)内。而且，使功能液(X1)进行固化处理，形成膜图案。此时，在相对于围堰(B)的上面的功能液(X1)的前进接触角和后退接触角之差成为10°以上而且后退接触角成为13°以上的条件下进行功能液X1的配置。
摘要（英）：
A method of forming a film pattern by placing a functional liquid on a substrate, comprises: forming a bank on the substrate, wherein the bank corresponds to a region for forming the film pattern; placing the functional liquid in the region for forming the film pattern partitioned by the bank; and curing the functional liquid to form the film pattern; wherein the functional liquid is placed under conditions that a difference between an advancing contact angle and a receding contact angle of the functional liquid with a top surface of the bank is 10 degrees or more and that the receding contact angle is 13 degrees or more.
公开/授权文献:
- CN100440428C 膜图案的形成法 公开/授权日：2008-12-03
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |