基本信息:
- 专利标题： 分步重复光照纳米压印装置
- 申请号：CN200510126215.9 申请日：2005-11-28
- 公开(公告)号：CN1800975B 公开(公告)日：2011-11-30
- 发明人： 罗先刚 , 陈旭南 , 胡承刚
- 申请人： 中国科学院光电技术研究所
- 申请人地址： 四川省成都市双流350信箱
- 专利权人： 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人： 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人地址： 四川省成都市双流350信箱
- 代理机构： 北京科迪生专利代理有限责任公司
- 代理人： 刘秀娟; 成金玉
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/00
摘要：
分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模，也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。
公开/授权文献:
- CN1800975A 分步重复光照纳米压印装置 公开/授权日：2006-07-12