基本信息:
- 专利标题： 曝光装置和用于制造曝光装置的方法
- 专利标题（英）：Exposure system and production method for exposure system
- 申请号：CN200380100103.5 申请日：2003-10-10
- 公开(公告)号：CN1684837A 公开(公告)日：2005-10-19
- 发明人： 盐田聪 , 安永真 , 增渕贞夫 , 岩子彰展
- 申请人： 西铁城时计株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 西铁城时计株式会社
- 当前专利权人： 西铁城时计株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 秦晨
- 优先权： 297721/2002 2002.10.10 JP; 297797/2002 2002.10.10 JP; 297814/2002 2002.10.10 JP; 297836/2002 2002.10.10 JP
- 国际申请： PCT/JP2003/013088 2003.10.10
- 国际公布： WO2004/035317 JA 2004.04.29
- 进入国家日期： 2004-07-13
- 主分类号： B41J2/445
- IPC分类号： B41J2/445
摘要：
本发明在于提供一种在其中存储有被适当确定的电流值，用于向发光设备供电的曝光装置，和用于制造这种曝光装置的方法。根据本发明的制造方法包括步骤：向发光设备提供参考电流，并测量来自光调制设备的多个像素中各像素的光量；确定从多个像素测得的光量中的最小值是否处在预定范围内；以及当光量的最小值处在预定范围之外时，确定所要提供给发光设备的电流值，以使光量的最小值落在预定范围内。
公开/授权文献:
- CN100398328C 一种曝光装置 公开/授权日：2008-07-02
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B41 | 印刷；排版机；打字机；模印机 |
| ----B41J | 打字机；选择性印刷机构，即不用印刷的印刷机构；排版错误的修正 |
| ------B41J2/00 | 以打印或标记工艺为特征而设计的打字机或选择性印刷机构 |
| --------B41J2/005 | .特征在于使液体或粉粒有选择地与印刷材料接触 |
| ----------B41J2/44 | ..用单照射源，如光束或光栅配置 |
| ------------B41J2/445 | ...用液晶 |