
基本信息:
- 专利标题: 筒镀装置与设计方法
- 专利标题(英):Cartridge plating device and design method
- 申请号:CN200410044686.0 申请日:2004-05-20
- 公开(公告)号:CN1308497C 公开(公告)日:2007-04-04
- 发明人: 中山靖之 , 坂本健 , 岩井达洋 , 山本智实
- 申请人: TDK株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: TDK株式会社
- 当前专利权人: TDK株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人: 温大鹏; 杨松龄
- 优先权: 141528/03 2003.05.20 JP; 130846/04 2004.04.27 JP
- 主分类号: C25D17/20
- IPC分类号: C25D17/20
摘要:
本发明的筒镀装置是长轴长度(a)为5~60mm、长轴长度(a)与短轴长度(b)(单位mm)的比(a/b)的值为1.2以上,厚度(c)(单位mm)比短轴长度(b)小的平板形状物为被镀对象物进行筒镀用的筒镀装置,由于其构成是棒状的阴极导入部导入筒内后有距离(L)的水平部,利用与被镀对象物的长度(a)的关系,设定该距离使(L/a)≤0.9,所以即使是筒镀中有障碍的平板形状的被镀对象物,也可以减少或防止被镀对象物在筒内流动状态的偏倚或停留,可确保被镀对象物形成均匀厚度的镀膜、且可抑制龟裂或破裂的不良现象。
公开/授权文献:
- CN1572915A 筒镀装置与设计方法 公开/授权日:2005-02-02
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C25 | 电解或电泳工艺;其所用设备 |
----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置 |
------C25D17/00 | 电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件 |
--------C25D17/02 | .镀槽;镀槽的安装 |
----------C25D17/18 | ..有闭合容器的 |
------------C25D17/20 | ...水平滚桶 |