基本信息:
- 专利标题： 光掩模及其应用
- 专利标题（英）：Light mask and making method thereof
- 申请号：CN02149933.0 申请日：1995-06-28
- 公开(公告)号：CN1251020C 公开(公告)日：2006-04-12
- 发明人： 长谷川升雄 , 寺泽恒男 , 福田宏 , 早野胜也 , 今井彰 , 茂庭明美 , 冈崎信次
- 申请人： 株式会社日立制作所
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社日立制作所
- 当前专利权人： 瑞萨电子株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 付建军
- 优先权： 146890/94 1994.06.29 JP; 175088/1994 1994.07.27 JP; 219786/1994 1994.09.14 JP
- 分案原申请号： 951077775
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G03F9/00 ; H01L21/027
摘要：
本发明涉及一种光掩模，该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。
公开/授权文献:
- CN1423168A 光掩模及其制造方法 公开/授权日：2003-06-11