基本信息:
- 专利标题： 辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法
- 专利标题（英）：Radiation sensitive refractivity change composition and method for changing refractivity
- 申请号：CN02157855.9 申请日：2002-12-20
- 公开(公告)号：CN1216320C 公开(公告)日：2005-08-24
- 发明人： 山田宪司 , 别所信夫 , 熊野厚司 , 今野圭二
- 申请人： 捷时雅株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 捷时雅株式会社
- 当前专利权人： 捷时雅株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人： 刘元金; 邰红
- 优先权： 389777/2001 2001.12.21 JP
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C08F2/44 ; G02B1/04
摘要：
一种辐射敏感的折射率变化组合物，其折射率由一种简单的方法来改变，改变的折射率差别足够大，并且还可以提供一种稳定的折射率图案和一种稳定的光学材料，而无论其使用条件。该辐射敏感的折射率变化组合物包含(A)一种可聚合的化合物，(B)一种不可聚合的化合物，它的折射率低于可聚合的化合物(A)的聚合物，和(C)一种辐射敏感的聚合引发剂。
公开/授权文献:
- CN1427306A 辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法 公开/授权日：2003-07-02