基本信息:
- 专利标题： 显示基板及其制备方法和显示装置
- 申请号：CN202410888546.9 申请日：2024-07-03
- 公开(公告)号：CN118859585A 公开(公告)日：2024-10-29
- 发明人： 于勇 , 李菲菲 , 赵欣欣 , 徐传祥 , 李翔 , 刘鑫华 , 岳阳 , 李少辉 , 舒适 , 姚琪 , 黄华
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京风雅颂专利代理有限公司
- 代理人： 陈莉
- 主分类号： G02F1/1339
- IPC分类号： G02F1/1339 ; G02F1/1343 ; G02F1/1333
摘要：
本申请提供一种显示基板及其制备方法和显示装置，显示基板包括驱动基底；挡墙结构，设于驱动基底上，挡墙结构包括阵列设置的多个挡墙；第一电极层，设于挡墙远离驱动基底的一侧，第一电极层在所述驱动基底上的正投影与所述挡墙在所述驱动基底上的正投影至少部分重合；第二电极层，设于所述挡墙和所述驱动基底之间或设于相邻两个所述挡墙之间，如此，当同时驱动第一电极和第二电极时，第一电极和第二电极之间形成沿着竖直方向的纵向电场或者与竖直方向有一定角度的倾斜电场，这个纵向电场或倾斜电场可以在挡墙的纵向上提供一个驱动力，使得所有的黑粒子均可以无限靠近挡墙，以降低黑粒子对开口区反射率的影响，提升反射率。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02F | 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器 |
| ------G02F1/00 | 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学 |
| --------G02F1/01 | .对强度、相位、偏振或颜色的控制 |
| ----------G02F1/09 | ..基于磁—光元件的，例如，呈现法拉第效应的 |
| ------------G02F1/133 | ...构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置 |
| --------------G02F1/1333 | ....构造上的设备 |
| ----------------G02F1/1339 | .....垫圈；间隔体；液晶单元的密封 |