![用于治疗痤疮的低温等离子体射流处理系统、装置及用途](/CN/2024/1/177/images/202410887593.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 用于治疗痤疮的低温等离子体射流处理系统、装置及用途
- 申请号:CN202410887593.1 申请日:2024-07-03
- 公开(公告)号:CN118692886A 公开(公告)日:2024-09-24
- 发明人: 文翔 , 宁文军
- 申请人: 四川大学华西医院
- 申请人地址: 四川省成都市武侯区国学巷37号
- 专利权人: 四川大学华西医院
- 当前专利权人: 四川大学华西医院
- 当前专利权人地址: 四川省成都市武侯区国学巷37号
- 代理机构: 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人: 郑勇力
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; A61B18/04
摘要:
本发明涉及医疗器械技术领域,具体涉及一种用于治疗痤疮的低温等离子体射流处理系统、装置及用途。本发明的系统包括:气体控制模块,被配置为控制气体组分和流速,使得工作气体环境由98%v/v‑99%v/v的He和1%v/v‑2%v/v的O