基本信息:
- 专利标题： 一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺
- 申请号：CN202410839892.8 申请日：2024-06-26
- 公开(公告)号：CN118550153A 公开(公告)日：2024-08-27
- 发明人： 段辉高 , 周宇 , 陈雷 , 樊夫 , 胡跃强 , 贾红辉
- 申请人： 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院（广州增城）
- 申请人地址： 湖南省长沙市岳麓区麓山南路麓山门
- 专利权人： 湖南大学,湖大粤港澳大湾区创新研究院（广州增城）
- 当前专利权人： 湖南大学,湖大粤港澳大湾区创新研究院（广州增城）
- 当前专利权人地址： 湖南省长沙市岳麓区麓山南路麓山门
- 代理机构： 北京思海天达知识产权代理有限公司
- 代理人： 王兆波
- 主分类号： G03F1/68
- IPC分类号： G03F1/68 ; G03F1/80
摘要：
本发明公开了一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺，属于微纳制造领域。包括：硅衬底清洗；得到硅衬底上均匀分布的无缺陷低界面黏附可转移光刻胶膜。去除胶层内的溶剂并提高光刻胶膜的机械擦伤能力。转移，将光刻胶转移到柔性印章上。将硬质母掩模版图案等比例转移到光刻胶上。将硬质母掩模版图案等比例复制到光刻胶上。金属沉积；通过沉积一层不透光金属，最终实现大面积高分辨柔性掩模版的高效、低成本制备。用胶带将结构外的金属和光刻胶缓慢剥离，得到大面积高分辨柔性掩模版。该发明不仅为传统柔性掩模版加工制造提供了更可靠和高效的工艺，使得制造过程更加稳定和高效，同时也能满足大幅面的制造需求。