基本信息:
- 专利标题： 一种抛光垫及其制备方法、应用
- 申请号：CN202410873231.7 申请日：2024-07-01
- 公开(公告)号：CN118404492A 公开(公告)日：2024-07-30
- 发明人： 田骐源 , 王凯 , 谢毓 , 刘淑婷
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市开发区北京中路50号
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市开发区北京中路50号
- 代理机构： 北京信诺创成知识产权代理有限公司
- 代理人： 胡婷婷; 陈悦军
- 主分类号： B24B37/22
- IPC分类号： B24B37/22 ; B24B37/24 ; B24B37/26 ; B24D18/00
摘要：
本发明公开了一种抛光垫及其制备方法、应用，涉及化学机械平坦化领域，所述抛光垫包括依次贴合的抛光顶层、上粘结层、缓冲中层、下粘结层和支撑性底层，其中，具有第一压缩恢复率的环形纤丝层块和具有第二压缩恢复率的环形纤丝层块从圆心向外按直径递增的方式交叉排列形成所述缓冲中层，第一压缩恢复率和第二压缩恢复率不同，且至少一组相邻的纤丝层块之间具有空隙以形成环形沟槽。本发明通过在缓冲中层中设置具有不同的压缩恢复能力的纤丝层块，使不同性质的纤丝层块在抛光中实现分段作用，进而延长抛光垫的使用寿命。
公开/授权文献:
- CN118404492B 一种抛光垫及其制备方法、应用 公开/授权日：2024-12-03
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B24 | 磨削；抛光 |
| ----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 |
| ------B24B37/00 | 研磨机床或装置，即需要在相对软但仍为刚性的研具和被研磨表面之间加入粉末状磨料；及其附件 |
| --------B24B37/005 | .研磨机床或装置的控制装置 |
| ----------B24B37/12 | ..用于加工平面的研磨片 |
| ------------B24B37/22 | ...以多层结构为特征 |