![一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜](/CN/2024/1/123/images/202410615551.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜
- 申请号:CN202410615551.2 申请日:2024-05-17
- 公开(公告)号:CN118192179B 公开(公告)日:2024-08-06
- 发明人: 苏晨怡 , 杨顺华 , 杨臻垚 , 施钧辉
- 申请人: 之江实验室
- 申请人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 代理机构: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司
- 代理人: 方道杰
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G02B1/00 ; G02B3/00
摘要:
本发明涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜,沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台,所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同,以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。本发明通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量,由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深,以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度,由此改变获得的柱体高度和半径。
公开/授权文献:
- CN118192179A 一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜 公开/授权日:2024-06-14