基本信息:
- 专利标题： 一种有机卤化物的机械氧化还原脱卤方法
- 申请号：CN202410255562.4 申请日：2024-03-06
- 公开(公告)号：CN118184474A 公开(公告)日：2024-06-14
- 发明人： 王召 , 李正恒
- 申请人： 苏州大学
- 申请人地址： 江苏省苏州市吴江区久泳西路1号
- 专利权人： 苏州大学
- 当前专利权人： 苏州大学
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市吴江区久泳西路1号
- 代理机构： 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人： 张静杰
- 主分类号： C07B35/06
- IPC分类号： C07B35/06 ; C07C67/317 ; C07C69/24 ; C07C69/34 ; C07C69/614 ; C07C69/78 ; C07C45/65 ; C07C49/788 ; C07C49/807 ; C07C41/24 ; C07C43/205 ; C07C253/30 ; C07C255/50 ; B01J23/06 ; B01J23/02 ; B01J21/06 ; B01J35/45 ; B01J35/64
摘要：
本发明公开了一种有机卤化物的机械氧化还原脱卤方法，包括以下步骤：在惰性气体环境下，将有机卤化物、机械氧化还原催化剂和三(三甲基硅基)硅烷混合得到混合物，对所述混合物施加机械应力，使得所述有机卤化物发生机械氧化还原脱卤反应得到相应烷烃；所述有机卤化物为烷基卤化物或芳基卤化物。本发明使用机械氧化还原催化剂和三(三甲基硅基)硅烷成功实现了在机械力作用下对有机卤化物的处理，未使用污染环境的溶剂，可在无溶剂或者极少量的溶剂的条件下反应，保证了有机卤化物在被短时间内被处理的同时，单体转化率相对较高。本发明机械氧化还原脱卤方法对烷基卤代物和较为稳定的芳基卤化物这两类单体均可使用，具有广泛的应用前景。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07B | 有机化学的一般方法；所用的装置 |
| ------C07B35/00 | 不形成或不引入含杂原子官能团的反应，其中包括原已直接相连的两个碳原子间键型的变化 |
| --------C07B35/06 | .分解，例如，脱卤素、脱水或脱卤化氢 |