基本信息:
- 专利标题： 高深宽比X射线光栅的制造方法及高深宽比X射线光栅
- 申请号：CN202410405004.1 申请日：2024-04-03
- 公开(公告)号：CN118131380A 公开(公告)日：2024-06-04
- 发明人： 王振天 , 张丽 , 邓润涛 , 陈志强 , 邢宇翔 , 高河伟 , 李禹锋
- 申请人： 清华大学
- 申请人地址： 北京市海淀区清华园1号
- 专利权人： 清华大学
- 当前专利权人： 清华大学
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华园1号
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人： 张会华; 岳红杰
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18
摘要：
本申请提供了高深宽比X射线光栅的制造方法及高深宽比X射线光栅。该制造方法包括通过层叠的方式将第一材料部和第二材料部交替设置。光栅包括m个第一材料部和n个第二材料部，‑1≤m‑n≤1，且m、n均为正整数。光栅包括相互垂直的高度方向和周期方向，在高度方向和周期方向形成的平面中，光栅的高度为h，光栅还包括与周期方向平行的第一边缘和第二边缘，第一边缘的长度为D1，第二边缘的长度为D2，且D1≤D2，h(m+n)/D1＞200。