基本信息:
- 专利标题： 一种减少大规模基坑分期施工周期的地层处理方法
- 申请号：CN202410162862.8 申请日：2024-02-05
- 公开(公告)号：CN117966755A 公开(公告)日：2024-05-03
- 发明人： 崔耀 , 周萌 , 陈伟明 , 田力达 , 赵志国 , 张齐芳 , 魏安 , 王志强
- 申请人： 中铁上海设计院集团有限公司
- 申请人地址： 上海市静安区共和新路1265号
- 专利权人： 中铁上海设计院集团有限公司
- 当前专利权人： 中铁上海设计院集团有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市静安区共和新路1265号
- 代理机构： 上海申蒙商标专利代理有限公司
- 代理人： 周宇凡
- 主分类号： E02D17/04
- IPC分类号： E02D17/04 ; E02D29/02 ; E02D3/10 ; E02D3/02
摘要：
本发明涉及一种减少大规模基坑分期施工周期的地层处理方法，对近期施工的围护结构进行施工；在远期基坑的边界位置设置临时挡墙单元，临时挡墙单元架设在近期施工的围护结构之外的位置；对近期施工进行开挖，开挖时所产生的弃土填筑在临时挡墙单元之中并进行压实，同时将弃土堆载在远期基坑的基坑范围内，令临时挡墙单元对位于远期基坑的基坑范围内的弃土进行围挡，临时挡墙单元和弃土对远期基坑的地层堆载预压进行排水固结。本发明的优点是：适用于大规模分期建设的项目，利用项目分期建设的条件，在远期基坑开挖前对其基坑范围内的地层进行改良，减小远期基坑开挖风险，从而提高远期基坑的施工效率，同时对近期基坑的开挖弃土进行快速消纳。
IPC结构图谱:
| E | 固定建筑物 |
| --E02 | 水利工程；基础；疏浚 |
| ----E02D | 基础；挖方；填方；地下或水下结构物 |
| ------E02D17/00 | 挖方；挖方边缘的修砌；填方 |
| --------E02D17/02 | .基础坑 |
| ----------E02D17/04 | ..基础坑边缘的修砌或加固 |