![一种缺陷调控的二维材料异质结器件及其制备方法和应用](/CN/2023/1/363/images/202311818080.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种缺陷调控的二维材料异质结器件及其制备方法和应用
- 申请号:CN202311818080.7 申请日:2023-12-27
- 公开(公告)号:CN117907410A 公开(公告)日:2024-04-19
- 发明人: 李泽晖 , 王坤婵 , 李彭 , 钟嘉浩 , 郭瑞锐
- 申请人: 上海交通大学
- 申请人地址: 上海市闵行区东川路800号
- 专利权人: 上海交通大学
- 当前专利权人: 上海交通大学
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区东川路800号
- 代理机构: 上海科盛知识产权代理有限公司
- 代理人: 沙永生
- 主分类号: G01N27/48
- IPC分类号: G01N27/48 ; H10K71/00 ; H10K30/60 ; H10K30/10 ; H01M4/02 ; H01M4/90 ; H01M4/04 ; H01M4/88 ; G01N27/30 ; G01V8/10
摘要:
本发明属于电子器件领域,具体涉及一种缺陷调控的二维材料异质结器件及其制备方法和应用,包括如下步骤:将二维材料转移至衬底上,并制备电极,形成二维材料器件;通过等离子体清洗在二维材料的表面制造缺陷;将形成有缺陷的二维材料器件浸入低温金属离子溶液中;将浸泡后的二维材料器件再次浸入配体溶液中,并进行循环浸泡,在二维材料表面生长第二层多孔骨架结构材料形成异质结;清洗并干燥,得到缺陷调控的二维材料异质结器件。与现有技术相比,本发明解决现有技术中无法选择性设计的问题;本方案通过缺陷锚定金属离子,实现了具有目标位点、定向选择性的二维材料异质结器件,且制备方法简单、可控,能够大面积制备。
公开/授权文献:
- CN117907410B 一种缺陷调控的二维材料异质结器件及其制备方法和应用 公开/授权日:2024-11-26
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G01 | 测量;测试 |
----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
------G01N27/00 | 用电、电化学或磁的方法测试或分析材料 |
--------G01N27/02 | .通过测试阻抗 |
----------G01N27/28 | ..电解池部件 |
------------G01N27/48 | ...用极谱法,即缓慢改变电压时测量电流的变化 |