基本信息:
- 专利标题： 一种高深宽比的铝蚀刻液及应用
- 申请号：CN202311464116.6 申请日：2023-11-06
- 公开(公告)号：CN117702116A 公开(公告)日：2024-03-15
- 发明人： 贺兆波 , 叶瑞 , 高楒羽 , 欧阳克银 , 钟昌东 , 黄锣锣 , 郑秋瞳 , 张宗萍 , 黎鹏飞
- 申请人： 湖北兴福电子材料股份有限公司
- 申请人地址： 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号
- 专利权人： 湖北兴福电子材料股份有限公司
- 当前专利权人： 湖北兴福电子材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号
- 代理机构： 宜昌市三峡专利事务所
- 代理人： 王玉芳
- 主分类号： C23F1/20
- IPC分类号： C23F1/20 ; H01L21/3213 ; H01L21/02
摘要：
本发明公开了一种高深宽比的铝蚀刻液及应用，按照质量百分比，将60‑75%磷酸、1‑3%硝酸、10‑20%冰醋酸、0.2‑2.5%复配缓冲剂、0.005‑1%阴离子表面活性剂与去离子水混合制备得到铝蚀刻液，其中利用弱酸盐和醇胺类化合物复配得到的复配缓冲剂可以协同提高蚀刻深宽比，阴离子表面活性剂可以改善铝蚀刻液的表面张力，从而降低侧蚀量并减少蚀刻残留，满足不同产品的蚀刻角度和蚀刻量的要求，提高产品良率，具有巨大的应用潜力。