
基本信息:
- 专利标题: 一种干燥装置及其顶刀
- 申请号:CN202311702841.2 申请日:2023-12-12
- 公开(公告)号:CN117628875A 公开(公告)日:2024-03-01
- 发明人: 王桂玲 , 赵岩 , 赵博深 , 张贺 , 王波 , 彭同华 , 杨建
- 申请人: 北京天科合达半导体股份有限公司 , 深圳市重投天科半导体有限公司
- 申请人地址: 北京市大兴区丰远街1号院1号楼
- 专利权人: 北京天科合达半导体股份有限公司,深圳市重投天科半导体有限公司
- 当前专利权人: 北京天科合达半导体股份有限公司,深圳市重投天科半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区丰远街1号院1号楼
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理人: 李慧慧
- 主分类号: F26B25/18
- IPC分类号: F26B25/18
摘要:
本发明公开了一种干燥装置及其顶刀,该顶刀包括顶刀本体;顶刀本体用于同晶圆配合的固定结构为轴对称结构,至少用于为晶圆提供对称的两处支撑;固定结构的最低处开设有排水结构,贯通顶刀本体的侧壁。本方案一方面将固定结构设置为轴对称结构,以便于为晶圆提供对称的两处支撑,使得晶圆在被支撑时处于垂直稳定的状态,避免晶圆与清洗花篮发生接触,另一方面在固定结构的最低处开设有排水结构,以使得去离子水向下流动至固定结构的最低处时可实现排出,避免发生堆积,进而以使得流动至晶圆底部边缘的去离子水能够与晶圆快速脱离,从而可避免晶圆的底部产生水印或者边缘白,确保晶圆清洗效果。
IPC结构图谱:
F | 机械工程;照明;加热;武器;爆破 |
--F26 | 干燥 |
----F26B | 从固体材料或制品中消除液体的干燥 |
------F26B25/00 | 不包含F26B21/00或F26B23/00组中的一般应用部件 |
--------F26B25/06 | .室、容器或贮器 |
----------F26B25/08 | ..其部件 |
------------F26B25/18 | ...大部分敞开的,例如,盘、盆、盘状容器 |