![一种高分辨率像素化中子敏感闪烁屏及其制备方法](/CN/2023/1/269/images/202311349781.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种高分辨率像素化中子敏感闪烁屏及其制备方法
- 申请号:CN202311349781.0 申请日:2023-10-18
- 公开(公告)号:CN117577373A 公开(公告)日:2024-02-20
- 发明人: 李德源 , 张鹏鹏 , 李会 , 李华
- 申请人: 中国辐射防护研究院
- 申请人地址: 山西省太原市小店区学府街102号
- 专利权人: 中国辐射防护研究院
- 当前专利权人: 中国辐射防护研究院
- 当前专利权人地址: 山西省太原市小店区学府街102号
- 代理机构: 北京天悦专利代理事务所
- 代理人: 田明; 任晓航
- 主分类号: G21K4/00
- IPC分类号: G21K4/00 ; G01T3/06
摘要:
本发明涉及一种高分辨率像素化中子敏感闪烁屏及其制备方法,通过制备中子敏感荧光粉与易挥发有机溶剂的混合液,采用抽滤法正反面多次将敏感荧光粉混合液填充至玻璃毛细管阵列中,对填充好敏感荧光粉混合液的玻璃毛细管阵列进行烘干,待有机溶剂挥发完全。将填充荧光粉的毛细管阵列放置于紫外固化胶填充后再进行固化,对于进行固化的玻璃毛细管阵列进行两面研磨抛光,去掉表层的紫外固化胶,以得到高分辨率像素化中子敏感闪烁屏。采用本发明中公开的制备方法,在传统抽滤法的基础上,增加了紫外固化胶的填充及抛光工艺,形成光约束结构,避免光串扰问题,使制备出来的闪烁屏具有更优的反射性能,为中子成像技术发展提供可靠支撑。
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G21 | 核物理;核工程 |
----G21K | 未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜 |
------G21K4/00 | 用于将X射线或粒子辐射的空间分布转换成可见图像的转换屏幕,如荧光屏 |