基本信息:
- 专利标题： 一种优化磁约束带电粒子成像系统参数的方法
- 申请号：CN202311376080.6 申请日：2023-10-23
- 公开(公告)号：CN117113795B 公开(公告)日：2024-01-26
- 发明人： 陈锋 , 施钧辉 , 潘龙 , 王若凡 , 李驰野 , 孙明丽 , 陈睿黾 , 祝婧
- 申请人： 之江实验室
- 申请人地址： 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 专利权人： 之江实验室
- 当前专利权人： 之江实验室
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 代理机构： 北京博思佳知识产权代理有限公司
- 代理人： 董晓盈
- 主分类号： G06F30/25
- IPC分类号： G06F30/25
摘要：
本申请提供一种优化磁约束带电粒子成像系统参数的方法。该方法包括：给出粒子参数：静质量、所带电荷量和动能，计算磁钢度；给出约束参数范围：视场半径、磁场范围、磁透镜厚度范围、漂移距离范围和极面半径；给出磁透镜强度、磁透镜厚度和漂移距离的微分步数及要求的精度值；计算磁透镜强度范围，磁透镜强度、磁透镜厚度及漂移距离的微分步长；设定磁透镜强度、磁透镜厚度和漂移距离的初始值及迭代步长；计算系统半传输矩阵的迹的绝对值；判断磁透镜强度的初始值或迭代后的值是否在磁透镜强度范围内，且系统半传输矩阵的迹的绝对值是否大于要求的精度值，如果是，则进行循环迭代，否则，则计算磁透镜梯度的值；输出优化后的系统参数
公开/授权文献:
- CN117113795A 一种优化磁约束带电粒子成像系统参数的方法 公开/授权日：2023-11-24