基本信息:
- 专利标题： 有机EL器件的制造方法
- 申请号：CN202310429642.2 申请日：2023-04-20
- 公开(公告)号：CN116981325A 公开(公告)日：2023-10-31
- 发明人： 新仓泰裕 , 川上祥子 , 桥本直明 , 吉安唯
- 申请人： 株式会社半导体能源研究所
- 申请人地址： 日本神奈川
- 专利权人： 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人： 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人地址： 日本神奈川
- 代理机构： 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理人： 贾成功
- 优先权： 2022-195407 20221207 JP 2022-195407 20221207 JP
- 主分类号： H10K71/15
- IPC分类号： H10K71/15 ; H10K71/16 ; H10K50/11 ; H10K85/10 ; H10K85/60
摘要：
抑制发光器件的高电压化，该发光器件包括与有机化合物层接触地形成氧化铝膜的工序。提供一种有机EL器件的制造方法。在第一电极上形成有机化合物膜，在有机化合物膜上形成包含对水或以水为溶剂的药液的溶解度低的有机化合物的有机掩模膜，在有机掩模膜上形成无机掩模层，通过利用无机掩模层加工有机掩模膜及有机化合物膜的形状来形成有机掩模层及有机化合物层，使用水或以水为溶剂的液体来去除无机掩模层及有机掩模层的至少一部分。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H10 | 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件 |
| ----H10K | 有机电固态器件 |
| ------H10K71/00 | 专门适用于制造或处理本小类包括的有机器件 |
| --------H10K71/10 | .有机有源材料的沉积 |
| ----------H10K71/12 | ..利用液相沉积，例如，旋涂 |
| ------------H10K71/15 | ...以使用的溶剂为特征的 |