基本信息:
- 专利标题： 具有亚苄基氰基乙酸酯基的抗蚀剂下层膜形成用组合物
- 申请号：CN202280017061.1 申请日：2022-03-02
- 公开(公告)号：CN116888537A 公开(公告)日：2023-10-13
- 发明人： 窪寺俊 , 西田登喜雄 , 远藤勇树 , 岸冈高广
- 申请人： 日产化学株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理人： 李渊茹; 段承恩
- 优先权： 2021-033326 20210303 JP
- 国际申请： PCT/JP2022/008706 2022.03.02
- 国际公布： WO2022/186231 JA 2022.09.09
- 进入国家日期： 2023-08-24
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11
摘要：
提供对抗蚀剂溶剂、作为碱水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性，同时仅对湿蚀刻药液显示除去性、优选为溶解性的抗蚀剂下层膜。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：包含下述式(1)所示的部分结构的化合物(A)、和溶剂。(式中，R1、R2各自表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～40的芳基，X表示碳原子数1～10的烷基、羟基、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的烷氧基羰基、卤原子、氰基、硝基或它们的组合，Y表示直接键合、醚键、硫醚键或酯键，n表示0～4的整数，＊表示与化合物(A)残基的结合部分。)#imgabs0#