基本信息:
- 专利标题： 一种准分子紫外激光光刻装置
- 申请号：CN202310375267.8 申请日：2023-04-10
- 公开(公告)号：CN116500866A 公开(公告)日：2023-07-28
- 发明人： 高岩 , 叶东国 , 付志江
- 申请人： 大连榕树光学有限公司
- 申请人地址： 辽宁省大连市保税区黄海西四路215号宜华大厦1104
- 专利权人： 大连榕树光学有限公司
- 当前专利权人： 大连榕树光学有限公司
- 当前专利权人地址： 辽宁省大连市保税区黄海西四路215号宜华大厦1104
- 代理机构： 北京奥肯律师事务所
- 代理人： 王娜
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明公开了一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座，所述底座的顶端居中开设有凹槽，且底座的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件，且底座顶端的两侧均居中开设有滑槽，两个滑槽内均转动安装有丝杆一，且丝杆一延伸出滑槽的一端连接有固定设置于底座一侧的伺服电机一，两根所述丝杆一的外缘面上共同螺纹配合安装有光刻组件，所述气压固定组件包括承载盘。该准分子紫外激光光刻装置，采用气压吸附的方式完成对于晶圆的固定，可适用于不同直径的晶圆，能够对不同尺寸的晶圆进行固定，适用范围较大，大幅降低了固定时的局限性，并且可单独控制，保障对于晶圆的固定效果，实用性较强。