
基本信息:
- 专利标题: 复合铜箔及其制备方法和电池
- 申请号:CN202211741887.0 申请日:2022-12-28
- 公开(公告)号:CN116240601B 公开(公告)日:2024-08-02
- 发明人: 谢文宾 , 肖辉建 , 高晓航 , 杜培云 , 尹卫华
- 申请人: 深圳惠科新材料股份有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房2栋419
- 专利权人: 深圳惠科新材料股份有限公司
- 当前专利权人: 深圳惠科新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房2栋419
- 代理机构: 深圳市联鼎知识产权代理有限公司
- 代理人: 刘冰
- 主分类号: C25D5/56
- IPC分类号: C25D5/56 ; C25D3/38 ; C25D5/52 ; C25D7/06 ; C23C14/48 ; H01M10/052 ; H01M10/054 ; H01M4/66
摘要:
本申请公开了一种复合铜箔及其制备方法和电池,该制备方法首先采用离子注入工艺在基膜上形成导电金属离子层,再在形成的导电金属离子层的表面电镀铜层;离子注入和电镀的温度较低,不会对基膜产生损伤,离子注入形成的导电金属离子层增加了基膜表面的金属性和粗糙度,便于铜层的形成;其中,采用离子注入将导电金属离子附着在基膜上时,设置磁力线穿过基膜表面的磁场,以将导电金属离子附着在基膜的表面,降低了导电金属离子对基膜的掺杂,进一步降低了对基膜的损伤,同时也降低了掺杂量,从而降低了铜箔的质量。
公开/授权文献:
- CN116240601A 复合铜箔及其制备方法和电池 公开/授权日:2023-06-09
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C25 | 电解或电泳工艺;其所用设备 |
----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置 |
------C25D5/00 | 以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理 |
--------C25D5/24 | .难以施镀之金属表面上的电镀 |
----------C25D5/56 | ..塑料 |