基本信息:
- 专利标题： 组合物、树脂、非晶质膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、光刻用下层膜的制造方法及电路图案形成方法
- 申请号：CN202180048505.3 申请日：2021-07-08
- 公开(公告)号：CN115968391A 公开(公告)日：2023-04-14
- 发明人： 山本拓央 , 松浦耕大 , 堀内淳矢 , 岩崎敦子 , 牧野岛高史 , 越后雅敏
- 申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理人： 刘新宇; 石腾飞
- 优先权： 2020-121088 20200715 JP 2020-121088 20200715 JP 2020-121088 20200715 JP
- 国际申请： PCT/JP2021/025867 2021.07.08
- 国际公布： WO2022/009966 JA 2022.01.13
- 进入国家日期： 2023-01-06
- 主分类号： C09D165/00
- IPC分类号： C09D165/00
摘要：
一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源自选自由式(1‑0)、(1A)、及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，所述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。
公开/授权文献:
- CN115968391B 组合物、树脂、非晶质膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、光刻用下层膜的制造方法及电路图案形成方法 公开/授权日：2024-04-26