基本信息:
- 专利标题： 一种超平滑有机膜层的制备方法
- 申请号：CN202211521820.6 申请日：2022-11-30
- 公开(公告)号：CN115867092A 公开(公告)日：2023-03-28
- 发明人： 董茂进 , 冯煜东 , 王小军 , 秦丽丽 , 王冠 , 冯尔鹏 , 蔡宇宏 , 韩仙虎 , 王毅 , 马凤英
- 申请人： 兰州空间技术物理研究所
- 申请人地址： 甘肃省兰州市城关区高新飞雁街100号
- 专利权人： 兰州空间技术物理研究所
- 当前专利权人： 兰州空间技术物理研究所
- 当前专利权人地址： 甘肃省兰州市城关区高新飞雁街100号
- 代理机构： 北京理工大学专利中心
- 代理人： 张丽娜
- 主分类号： H10K71/00
- IPC分类号： H10K71/00 ; H10K50/842 ; C23C14/24 ; C23C14/12 ; C23C14/02 ; C23C14/58
摘要：
本发明公开了一种超平滑有机膜层的制备方法。镀膜是在氧化硅、氧化铝等无机膜层表面进行，工艺包括，有机物闪蒸、有机物流平、有机膜层聚合三个工艺过程；本发明的方法制备的有机膜层的作用，一方面能够使得无机膜层平坦化，粗糙度从20nm降到3纳米以内，另一方面有机层能够弥补针孔、微裂纹等微观缺陷，延长了气体分子的路径，能够制备高阻隔性能薄膜；本发明制备的有机隔膜是在氧化物膜层表面采用卷绕的方法通过闪蒸得到，该薄膜产品具有超平滑特性，采用原子力显微镜测试粗糙度小于3nm，可应用在量子点显示、光伏、光电材料封装用阻隔膜领域。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H10 | 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件 |
| ----H10K | 有机电固态器件 |
| ------H10K71/00 | 专门适用于制造或处理本小类包括的有机器件 |