基本信息:
- 专利标题： 一种印刷电路板碱性蚀刻废液再生及制备碱式碳酸铜的方法
- 申请号：CN202211384751.9 申请日：2022-11-07
- 公开(公告)号：CN115652308A 公开(公告)日：2023-01-31
- 发明人： 杨孙梅 , 徐金章 , 曹成波 , 刘后传 , 于少明
- 申请人： 合肥明美新材料研究所有限公司 , 泰兴冶炼厂有限公司
- 申请人地址： 安徽省合肥市高新区科学大道103号浙商创业大厦;
- 专利权人： 合肥明美新材料研究所有限公司,泰兴冶炼厂有限公司
- 当前专利权人： 合肥明美新材料研究所有限公司,泰兴冶炼厂有限公司
- 当前专利权人地址： 安徽省合肥市高新区科学大道103号浙商创业大厦;
- 代理机构： 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司
- 代理人： 乔恒婷
- 主分类号： C23F1/46
- IPC分类号： C23F1/46 ; C23F1/34 ; C22B7/00 ; C22B15/00 ; C01G3/00 ; H05K3/06
摘要：
本发明公开了一种印刷电路板碱性蚀刻废液再生及制备碱式碳酸铜的方法，本方法工艺流程简单，具有所需要的工序较少、设备较少、原材料消耗较少、生产费用较低等特点。本方法可使碱性蚀刻废液中的铜离子与氯化铵、氨等组分得到有效分离，即可将碱性蚀刻废液得到充分有效的再生；且再生后氯化铵、氨水的量基本未变，混合后的溶液可作为碱性蚀刻原液进行循环再利用；本方法碱性蚀刻废液中铜的分离效率高，铜的回收率可达99.9％以上；本方法可将回收的铜离子用来制备碱式碳酸铜产品，且制得的产品质量好，其质量能达到HG/T4825‑2015(工业碱式碳酸铜)中Ⅰ类产品的要求。
公开/授权文献:
- CN115652308B 一种印刷电路板碱性蚀刻废液再生及制备碱式碳酸铜的方法 公开/授权日：2024-08-20