![用于压印微和/或纳米结构的设备和方法](/CN/2022/1/271/images/202211359043.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 用于压印微和/或纳米结构的设备和方法
- 申请号:CN202211359043.X 申请日:2016-09-05
- 公开(公告)号:CN115629520A 公开(公告)日:2023-01-20
- 发明人: F.P.林德纳 , H.扎格尔迈尔 , C.舍恩 , T.格林斯纳 , E.赖斯纳 , P.菲舍尔 , O.卢克施
- 申请人: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
- 申请人地址: 奥地利圣弗洛里安
- 专利权人: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
- 当前专利权人: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
- 当前专利权人地址: 奥地利圣弗洛里安
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人: 郭帆扬
- 主分类号: G03F7/00
- IPC分类号: G03F7/00
摘要:
就此提出一种用于压印微和/或纳米结构的设备和方法。