基本信息:
- 专利标题： 蒸镀掩模
- 申请号：CN202210697086.2 申请日：2022-06-20
- 公开(公告)号：CN115537720B 公开(公告)日：2024-07-19
- 发明人： 木村辽太郎 , 渡部将弘
- 申请人： 株式会社日本显示器
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社日本显示器
- 当前专利权人： 株式会社日本显示器
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理人： 邸万杰; 徐飞跃
- 主分类号： C23C14/04
- IPC分类号： C23C14/04 ; C23C14/24
摘要：
本发明提供一种抑制了在掩模图案产生的变形的蒸镀掩模，蒸镀掩模包括具有多个开口部的掩模部、保持所述掩模部的保持框和连接所述掩模部与所述保持框的连接部，所述连接部包含以具有第1膜厚的方式与所述掩模部接触的第1部分和以具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚的方式与所述掩模部接触的第2部分。所述第2部分也可以位于比所述第1部分靠所述掩模部的内侧的位置。
公开/授权文献:
- CN115537720A 蒸镀掩模 公开/授权日：2022-12-30