基本信息:
- 专利标题： 一种镀放射性金属薄膜的方法及镀膜管材
- 申请号：CN202211142384.1 申请日：2022-09-20
- 公开(公告)号：CN115478253A 公开(公告)日：2022-12-16
- 发明人： 周利华 , 付天佐 , 王江 , 杨廷贵 , 朱盈喜 , 杨强 , 李鸿亚 , 陈义武 , 雷震 , 钟轶强 , 陈江 , 赵宝玲
- 申请人： 中核四0四有限公司
- 申请人地址： 甘肃省兰州市七里河区甘肃矿区
- 专利权人： 中核四0四有限公司
- 当前专利权人： 中核四0四有限公司
- 当前专利权人地址： 甘肃省兰州市七里河区甘肃矿区
- 代理机构： 北京润捷智诚知识产权代理事务所
- 代理人： 乔会霞; 徐颖超
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C14/16
摘要：
本发明提供一种镀放射性金属薄膜的方法及镀膜管材，所述镀放射性金属薄膜的方法，包括：取待镀膜管材，将磁控溅射镀膜的柱靶置入所述待镀膜管材的管内，在真空度‑10～50Pa下进行磁控溅射镀膜；其中，所述柱靶为放射性金属制成，呈空心管状，且柱靶的外径小于所述待镀膜管材的内径。通过将空心管状的柱靶置于所述待镀膜管材的管内，进行磁控溅射镀膜，可实现在待镀膜管材的内壁上进行镀膜，而待镀膜管材的外壁并不沉积金属，尤其是柱靶的外径小于所述待镀膜管材的内径，能够对各种小孔径的待镀膜管材的内壁进行镀膜，且薄膜均匀、结合力较好。